1. Klassifizierung reiner Kupfersorten
ASTM UNS-System (C10000-Serie)
Das UNS (Unified Numbering System) für Kupfer und Kupferlegierungen vergibt eine fünfstellige Nummer, beginnend mit „C“. Reines Kupfer fällt in den Bereich C10100 bis C13000 und wird nach Sauerstoffgehalt und Reinheit kategorisiert:
Sauerstofffreies elektronisches Kupfer (OFE): Dargestellt durch C10100. Es hat eine extrem hohe Reinheit (größer oder gleich 99,99 % Cu) und einen extrem niedrigen Sauerstoffgehalt (weniger als oder gleich 0,001 %). Es wird durch nichtoxidierendes Schmelzen hergestellt und bietet die höchste elektrische Leitfähigkeit (größer oder gleich 102 % IACS) und eine ausgezeichnete Beständigkeit gegen Wasserstoffversprödung.
Sauerstofffreies Kupfer mit hoher Leitfähigkeit (OFHC): Dargestellt durch C10200. Reinheit größer oder gleich 99,95 % Cu, Sauerstoff kleiner oder gleich 0,001 %. Es handelt sich um die Standardsorte für elektrische Hochleistungsanwendungen.
Elektrolytisches Tough-Pitch-Kupfer (ETP): Dargestellt durch C11000. Reinheit größer oder gleich 99,90 % Cu, mit kontrolliertem Sauerstoffgehalt (typischerweise 0,02–0,04 %). Es ist die am weitesten verbreitete Allzweck-Reinkupfersorte, die Leistung und Kosten in Einklang bringt.
Phosphordesoxidiertes Kupfer: Qualitäten wie C12000 und C12200, die Spuren von Phosphor zur Desoxidation enthalten und so die Schweißbarkeit verbessern.
Chinesisches GB/T-System (GB/T 5231)
Chinesische Sorten aus reinem Kupfer beginnen mit dem Buchstaben „T“ (für „Tong“, was Kupfer bedeutet). Sie werden je nach Reinheit und Sauerstoffgehalt in drei Hauptkategorien eingeteilt:
Gemeinsames reines Kupfer (T-Serie):
T1: Hohe Reinheit (größer oder gleich 99,95 % Cu), geringe Verunreinigungen, verwendet für elektrische Präzisionskomponenten.
T2: Die gebräuchlichste Sorte (größer oder gleich 99,90 % Cu), weit verbreitet in Drähten, Kabeln, Rohren und der allgemeinen Industrie.
T3: Geringere Reinheit (größer oder gleich 99,70 % Cu), kostengünstig für unkritische Anwendungen.
Sauerstofffreies Kupfer (TU-Serie):
TU1: Extrem niedriger Sauerstoffgehalt (weniger als oder gleich 0,001 %), höchste Reinheit, entspricht C10100.
TU2: Niedriger Sauerstoffgehalt (weniger als oder gleich 0,002 %), entspricht C10200.
Phosphordesoxidiertes Kupfer (TP-Serie):
TP1/TP2: Enthalten Phosphor zur Desoxidation und werden in Schweiß- und Wärmetauscheranwendungen verwendet.
2. Chinesische Äquivalente von C10100 und C11000
C10100 (Sauerstofffreies elektronisches Kupfer, OFE):
Chinesisches Äquivalent: TU1 (GB/T 5231).
Bei beiden handelt es sich um ultrahochreine, sauerstofffreie Kupfersorten (Cu größer oder gleich 99,99 %, O kleiner oder gleich 0,001 %), die für kritische Elektronik-, Vakuum- und Supraleitungsanwendungen entwickelt wurden, bei denen eine Wasserstoffversprödung vermieden werden muss.
C11000 (Electrolytic Tough Pitch Copper, ETP):
Chinesisches Äquivalent: T2 (GB/T 5231).
Bei beiden handelt es sich um Allzweckkupfer mit hoher Leitfähigkeit, ähnlicher Reinheit (Cu größer oder gleich 99,90 %) und kontrolliertem Sauerstoffgehalt. Sie sind in den meisten industriellen und elektrischen Anwendungen austauschbar.
Zusammenfassend lässt sich sagen, dass die Einstufung von reinem Kupfer weltweit standardisiert ist, um die Materialkonsistenz sicherzustellen. C10100 entspricht Chinas TU1 (ultrahochreinem sauerstofffreiem Kupfer), während C11000 T2 (Allzweck-Tough-Pitch-Kupfer) entspricht.
